新闻中心News

消息称三星电子 1c 纳米 DRAM 内存良率明显提升，设计改进起到关键作用

作者：P粉390130307 | 点击: | 来源：P粉390130307

2806
2025

6月24日消息，据韩国媒体SEDaily当地时间本月19日的报道以及另一家韩媒MK今日的报道，三星电子第六代10纳米级（注：即1cnm）DRAM内存制造工艺，在设计优化等因素推动下，良率实现了显著提升。SEDaily报道指出，三星去年在1cnm内存上的良率尚不足30%，而今年五月份进行的性能测试中，良率已上升至50%~70%；MK则提到了近期良率已超过60%的数据。两家媒体均表示，此次良率大幅提升主要得益于重大的设计调整，尽管这种改动可能会导致量产时间有所推迟...

6 月 24 日消息，据韩国媒体 sedaily 当地时间本月 19 日的报道以及另一家韩媒 mk 今日的报道，三星电子第六代 10 纳米级（注：即 1c nm）dram 内存制造工艺，在设计优化等因素推动下，良率实现了显著提升。

SEDaily 报道指出，三星去年在 1c nm 内存上的良率尚不足 30%，而今年五月份进行的性能测试中，良率已上升至 50%~70%；MK 则提到了近期良率已超过 60% 的数据。

两家媒体均表示，此次良率大幅提升主要得益于重大的设计调整，尽管这种改动可能会导致量产时间有所推迟，但在技术上取得了明显的进步。

由于在 HBM 市场上的失利，三星电子在今年第一季度将 DRAM 内存营收冠军的位置让给了 SK 海力士。考虑到三星即将推出的 HBM4 内存正是

基于 1c nm 工艺，该技术良率的改善有望为三星的重新崛起提供有力支撑。

欢迎光临，我们是一家专注中小型企业营销推广服务的公司！

专注企业电商网络营销推广！免费电商SEO诊断，你可信任的网络推广专家

消息称三星电子 1c 纳米 DRAM 内存良率明显提升，设计改进起到关键作用